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탄탈륨 이규화물 분말

탄탈륨 이규화물 분말

SAT NANO는 중국의 탄탈륨 이규화물 분말을 생산하는 우수한 제조업체입니다. 탄탈륨 이규화물 분말은 고온 안정성, 우수한 내산화성, 내식성, 우수한 열 전도성 및 우수한 전자 성능이 특징입니다. SAT NAO가 생산하는 탄탈륨 이규화물 분말은 전 세계 여러 나라에서 베스트셀러입니다.

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제품 설명

Hafnium silicide powder



TaSi2 분말로도 알려진 이규화탄탈륨 분말은 다음과 같은 특성을 가지고 있습니다.. 탄탈룸 디실리사이드는 산, 알칼리 및 기타 부식성 물질에 대한 우수한 부식 저항성을 보여 가혹한 화학적 환경에서도 안정성을 유지할 수 있습니다.탄탈룸 디실리사이드는 산화에 대한 탁월한 저항성을 나타내어 고온 환경에서 재료가 손상되지 않도록 보호합니다.





Hafnium silicide powder


하프늄 규화물 분말의 사양:

부품 번호 입자 청정
(%)
SSA
(m2/g)
부피 밀도
(g/cm3)
밀도
(g/cm3)
결정 색상
HP7314B-100N 100nm 99 35 5.2 9.14 큐빅 회색
HP7314B-1U
<1um 99 24 5.8 9.14 큐빅 회색
HP7314B-3U
1-3um 99.5 18 7.4 9.14 큐빅 회색

참고: 고객의 요구 사항에 따라 다양한 크기의 탄탈룸 이실리사이드 분말 제품을 공급할 수 있습니다.

탄탈륨 이규화물 분말의 적용:

1. 전기 및 전자 산업: 탄탈륨 이규화물 분말은 전기 접점, 전극 및 상호 연결과 같은 전도성 재료 생산에 사용됩니다. 또한 고온 전자 장치 개발에도 활용됩니다.

2. 세라믹 재료: 탄탈륨 이규화물 분말은 내화물, 절삭 공구용 세라믹 및 세라믹 코팅을 포함한 고급 세라믹 재료의 제조에 사용됩니다. 이는 이러한 재료의 기계적 특성과 내구성을 향상시킵니다.

3. 항공우주 및 항공 산업: 탄탈륨 이규화물 분말은 터빈 블레이드, 배기 노즐 및 연소실과 같은 항공우주 및 항공 응용 분야의 고온 부품 제조에 활용될 수 있습니다. 고온 안정성과 내식성은 이러한 까다로운 환경에 적합한 선택입니다.

4.화학 처리: 이규화탄탈룸 분말은 부식에 대한 저항성과 고온 안정성이 우수하여 화학 처리 산업 장비 제작에 사용됩니다.

5.적층 가공: 탄탈룸 이실리사이드 분말은 분말층 융합 또는 선택적 레이저 용융과 같은 적층 가공 공정에 사용되어 향상된 기계적 특성과 고온 저항을 갖춘 복잡한 부품을 생산할 수 있습니다.



Hafnium silicide powderHafnium silicide powder

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