ATO 분산액은 현대 투명 전도성 재료, 단열 코팅 및 정전기 방지 응용 분야에서 중요한 역할을 합니다. 이 심층 가이드에서 SAT NANO는 ATO 분산이 무엇인지, 어떻게 작동하는지, 어디에 사용되는지, 고성능 산업용 제제에 없어서는 안될 재료가 된 이유를 설명합니다.
재료 과학에 깊이 관여한 사람으로서 저는 올바른 구성 요소가 어떻게 성능을 변화시킬 수 있는지 직접 목격했습니다. 우리가 SAT NANO에 통합한 가장 흥미로운 발전 중 하나는 이산화주석 나노입자입니다.
재료 과학 분야에서 20년 이상의 경험을 가진 연구원으로서 저는 일관된 고품질 금속 산화물 나노입자 현탁액을 합성하는 데 따르는 어려움을 직접 목격했습니다. 이러한 투쟁은 현실입니다. 작고 강력한 입자들이 서로 뭉쳐지는 덩어리는 우리가 달성하기 위해 열심히 노력하는 바로 그 특성을 망칠 수 있습니다.
단일벽 탄소나노튜브를 제조하는 방법에는 크게 아크법, 레이저 어블레이션법, 화학기상증착법(CVD) 세 가지가 있다.
IC (Integrated Circuit) 기술의 개발로, 실리콘 기반 금속 산화물 반도체 (MOS)의 스케일링은 FETS (Field-Effect Transistors)의 스케일링이 기본 물리적 한계에 접근하고 있습니다. 탄소 나노 튜브 (CNT)는 원자 두께와 독특한 전기 특성으로 인해 실리콘 시대의 유망한 재료로 간주되며, 전력 소비를 줄이면 트랜지스터 성능을 향상시킬 가능성이 있습니다. 고순도 정렬 된 탄소 나노 튜브 (A-CNT)는 고전류 밀도로 인해 고급 IC를 구동하기에 이상적인 선택입니다. 그러나, 채널 길이 (LCH)가 30nm 미만으로 감소하면 단일 게이트 (SG) A-CNT FET의 성능은 유의하게 감소하며, 주로 스위칭 특성이 악화되고 누출 전류가 증가하는 것으로 나타납니다. 이 기사는 이론적 및 실험적 연구를 통해 A-CNT FET의 성능 저하 메커니즘을 밝히고 솔루션을 제안하는 것을 목표로합니다.
Sat Nano에 대한 우리의 연구는 몇 가지 중요한 장점을 확인했습니다. 첫째, 보리드 나노 입자 첨가제는 수분 및 화학적 침투에 대한 더 밀도가 높고 응집력있는 장벽을 만듭니다. 둘째, 그들은 내마모성을 극적으로 향상시킵니다. 종종 표준 코팅에 비해 200-300% 증가합니다. 셋째, 기존 코팅이 빠르게 저하되는 800 ° C를 초과하는 온도에서 안정성을 유지합니다.
